Visão geral
O Wafer XRD 200 é a sua plataforma de difração de raios X de alta velocidade totalmente automatizada para produção de wafer e pesquisa como você nunca viu antes.
O Wafer XRD 200 fornece dados importantes sobre uma variedade de parâmetros essenciais, como orientação e resistividade de cristal, caraterísticas geométricas como encaixes e planos, medições de distância e muito mais, em apenas alguns segundos. Projetado para se encaixar perfeitamente em sua linha de processo.
Recursos e benefícios
Precisão ultrarrápida com tecnologia de leitura proprietária
O método requer apenas uma rotação do wafer para reunir todos os dados necessários para determinar totalmente a orientação, o que proporciona alta precisão a um tempo de medição muito baixo, no intervalo de alguns segundos.
Manuseio e classificação totalmente automatizados
O Wafer XRD 200 foi projetado para otimizar seu rendimento e produtividade. A automação completa do manuseio e classificação e as ferramentas detalhadas de transmissão de dados fazem com que ele seja um elemento poderoso e eficiente em seu processo de CQ.
Conectividade fácil
A poderosa automação do Wafer XRD 200 é compatível com as interfaces MES e SECS/GEM. Ele se ajusta facilmente ao seu processo novo ou existente.
Alta precisão, visão mais profunda
Entenda seus materiais como nunca antes com as principais medidas do Wafer XRD 200. Medidas do Wafer XRD 200:
- Orientação de cristal
- Posição do encaixe, profundidade e ângulo de abertura
- Diâmetro
- Posição e comprimento planos
- Resistividade
A inclinação típica do desvio padrão (exemplo: Si 100) para a leitura azimutal é < 0,003o, mínimo < 0,001o.
Potente e versátil
O Wafer XRD 200 possibilita uma ampla variedade de medições em alta velocidade, o que agregará valor real aos seus processos, seja em pesquisa ou produção. Mas essa não é a única maneira pela qual o Wafer XRD 200 é versátil e flexível.
O Wafer XRD 200 torna a análise fácil e rápida para centenas de amostras potenciais, incluindo:
- Si
- SiC
- AlN
- Al2O3 (safira)
- GaAs
- Quartzo
- LiNbO3
- BBO
Principais aplicações
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- Produção e processamento
- A automação é uma necessidade nessa indústria de ritmo acelerado, e o Wafer XRD 200 está na liderança como uma solução prática e poderosa para gerenciar o manuseio, a classificação e as medições em profundidade de orientação de cristal, encaixe óptico e determinação plana, medições de resistividade e outros parâmetros importantes. Experimente você mesmo o aumento da produtividade!
- Controle de qualidade
- Compreender seus materiais com precisão e rapidez é a chave para um ótimo controle de qualidade, e o Wafer XRD 200 é a solução ideal. Usando o método ultrarrápido Omega-Scan, ele determina a orientação do cristal em uma única medição, oferecendo resultados em cinco segundos. Com funcionalidade adicional, incluindo medição de resistividade e determinação de caraterísticas geométricas, o Wafer XRD 200 oferece eficiência e versatilidade incomparáveis para o controle de qualidade da produção.
- Pesquisa de materiais
- Nem todos os ambientes ocupados são um ambiente de produção. O Wafer XRD 200 está igualmente equipado para fornecer análises de alto rendimento em ambientes de P&D. Capaz de caraterizar centenas de materiais diferentes, de Si, SiC e GaAs a quartzo, LiNbO3 e BBO, o Wafer XRD 200 tem a versatilidade de apoiar sua pesquisa de materiais e inovação ajudando você a moldar o futuro da tecnologia de semicondutores.
Especificações
| Rendimento | Mais de 10.000 wafers por mês |
| Geometria do wafer | Sob demanda |
| Precisão de inclinação | 0,003 |
| Eixo XRD em relação ao encaixe/posição plana | 0,03° |
Suporte
Serviços de suporte
- Suporte remoto e por telefone
- Manutenção preventiva e verificações
- Contrato de atendimento flexível ao cliente
- Certificados de desempenho
- Upgrades de hardware e software
- Suporte local e global
Conhecimento
- Soluções prontas para metrologia de semicondutores elementares e estruturais
- Automação e consultoria
- Treinamento e formação
